近日，金鉬集團(tuán)技術(shù)中心科研團(tuán)隊(duì)經(jīng)過一年多不懈的努力探索，攻克了二硫化鉬靶材制備的關(guān)鍵技術(shù)，成功制備出了長(zhǎng)度可達(dá)1米以上的大規(guī)格二硫化鉬靶材。目前該靶材已交付客戶進(jìn)行實(shí)質(zhì)性質(zhì)量認(rèn)證。
二硫化鉬具有六方層狀的晶體結(jié)構(gòu)，層間以弱的范德瓦爾斯力結(jié)合，剪切強(qiáng)度低，被譽(yù)為“固體潤(rùn)滑之王”，廣泛應(yīng)用于宇航工程、機(jī)械工業(yè)制造、電子等方面。二硫化鉬是繼石墨烯后，備受國(guó)際科學(xué)家關(guān)注的層狀材料，單層二硫化鉬具有良好發(fā)光效率，極佳電子遷移率（可快速反應(yīng)）與高開關(guān)比（電晶體較穩(wěn)定），可用于未來新型低耗能邏輯電路，極有可能取代目前硅晶做下一代主要核心元件。
二硫化鉬靶材主要用于航天航空及電子等領(lǐng)域制備二硫化鉬薄膜產(chǎn)品來實(shí)現(xiàn)二硫化鉬各項(xiàng)優(yōu)異性能。二硫化鉬與石墨性質(zhì)類似，成型相對(duì)困難，制備大規(guī)格產(chǎn)品難度更大，需要突破產(chǎn)品本身規(guī)格制備及背板綁定兩項(xiàng)主要技術(shù)。項(xiàng)目人員經(jīng)過不斷試驗(yàn)、討論、分析，調(diào)整工藝路線、試驗(yàn)各項(xiàng)參數(shù)，最終攻克了二硫化鉬靶材制備及銅背板綁定技術(shù)，成功制備出了長(zhǎng)度可達(dá)1米以上的大規(guī)格二硫化鉬靶材并交付客戶開始進(jìn)行實(shí)質(zhì)性質(zhì)量認(rèn)證。該項(xiàng)技術(shù)目前處于國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平，科研團(tuán)隊(duì)已申請(qǐng)了“一種制備二硫化鉬靶材的方法”、“一種二硫化鉬濺射靶材的制備方法”等4項(xiàng)發(fā)明專利，其中3項(xiàng)已獲授權(quán)。
大規(guī)格二硫化鉬靶材的成功制備及客戶的交付認(rèn)證，標(biāo)志著公司又一二硫化鉬新產(chǎn)品取得重大突破，同時(shí)也為后續(xù)大規(guī)格二硫化鉬靶材實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化奠定良好的基礎(chǔ)。
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